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新唐科技發佈高功率紫外光雷射二極體(379 nm, 1.0 W)

2026-01-22
發布在 合作媒體, 美通社
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日本京都2026年1月22日 /美通社/ — Nuvoton Technology Corporation Japan(以下簡稱「NTCJ」)於1月20日宣佈,開始量產其高功率紫外光半導體雷射二極體(379 nm, 1.0 W)。該產品採用直徑9.0 mm的CAN封裝(TO-9),可實現行業領先(*)的光功率輸出。透過NTCJ專有的器件結構和先進的高散熱封裝技術,該產品實現了短波長、高功率和長壽命這三個先前被認為難以達成的紫外半導體雷射元素,有助於提升先進半導體封裝無掩模光刻的圖形化精密度和生產效率。

(*)截至2026年1月16日,基於NTCJ對波長為379 nm、TO-9 CAN封裝、在25°C殼溫(Tc)下連續波(CW)運行的半導體雷射的研究。

主視覺圖:https://cdn.kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M108245/202601072090/_prw_PI1fl_x5FsfwAW.jpg

圖片:https://cdn.kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M108245/202601072090/_prw_PI2fl_038KkhpF.jpg

隨著人工智能(AI)的發展推動信息處理能力需求增長,對半導體性能的要求較以往也在不斷提高。另一方面,隨著電晶體微縮化發展接近其物理和經濟極限,半導體後端封裝技術和先進半導體封裝技術(通過並排排列或垂直堆疊多個半導體晶片的集成方案)正引起關注。

這些封裝技術的演進,離不開無掩膜曝光技術的支持。作為無掩模光刻技術中的關鍵光源之一,半導體雷射面臨著向更短波長(接近i線365 nm)和更高輸出功率發展的不斷增長的需求,以實現更精細的線路和提高設備產能。為滿足這些要求,NTCJ憑藉40多年的雷射設計和製造經驗,開發並商業化了波長為379 nm、輸出功率達1.0 W的紫外光半導體雷射。

紫外光半導體雷射通常存在由於低光電轉換效率(WPE)引起的顯著熱量產生問題,以及由紫外光引起的器件退化傾向,這使得在1.0 W以上的高輸出水準下實現穩定運行變得困難。為解決這一問題,NTCJ採取了雙管齊下的方法,同時專注於「提高WPE的器件結構」和「有效散熱的高熱傳導封裝技術」,成功開發出一款兼具短波長、高功率和長壽命的產品:1.0 W紫外線(379 nm)器件。這有助於延長紫外光光學器件的壽命。

該產品作為NTCJ的「基於半導體雷射的汞燈替代產品」系列的新成員,為客戶提供了新的選擇。

NTCJ將在美國三藩市舉行的SPIE Photonics West 2026展會以及日本橫濱舉辦的OPIE’26展會的展台上展示這款新產品的詳細資訊。NTCJ誠摯期待您的蒞臨。

產品詳情,請瀏覽:https://nuvoton.co.jp/semi-spt/apl/rd/?id=1100-0172

關於Nuvoton Technology Corporation Japan:https://www.nuvoton.co.jp/en/

SPIE Photonics West 2026新唐展位網頁:https://spie.org/ExhibitorDetail?ExpoID=5022&ExhibitorID=105454

OPIE(國際光學與光電技術展覽會):https://www.opie.jp/en/

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